您好！ [请登录]   [免费注册]
购物车中有 件商品

全国客服热线：400-615-9918  021-52859912
分子式
别名
英文名
分子量
MDL编码
EINECS
性状
熔点
沸点
总共找到1264个商品
85/85 已经是最后一页
图文列表 橱窗 文字
价格 销量 人气
碳化硅溅射靶, 50.8mm (2.0in) dia x 3.18mm (0.125in) thick, 99.5% (metals basis excluding B)  
碳化硅溅射靶, 50.8mm (2.0in) dia x 3.18mm (0.125in) thick, 99.5% (metals basis excluding B)

CAS：206-991-8
Silicon carbide sputtering target

  • ￥11441
氧化镁粘结型氮化硅(IV)溅射靶, 50.8mm (2.0in) dia x 3.18mm (0.125in) thick, 99.9% (metals basis)  
氧化镁粘结型氮化硅(IV)溅射靶, 50.8mm (2.0in) dia x 3.18mm (0.125in) thick, 99.9% (metals basis)

CAS：234-796-8
Silicon(IV) nitride

  • ￥14398
氧化钽(V)溅射靶, 50.8mm (2.0in) dia x 3.18mm (0.125in) thick, 99.9% (metals basis)  
氧化钽(V)溅射靶, 50.8mm (2.0in) dia x 3.18mm (0.125in) thick, 99.9% (metals basis)

CAS：215-238-2
Tantalum(V) oxide sputtering target

  • ￥22394
镁磁性平衡器, MKII, 220V  
镁磁性平衡器, MKII, 220V

CAS：215-18
Magnetic Susceptibility Balance

  • ￥191671
1 2 3 ... 77 78 79 80 81 82 83 84 85 已经是最后一页

商品分类