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硅化钛溅射靶, 50.8mm (2.0in) dia x 3.18mm (0.125in) thick, 99.5% (metals basis)
 
 
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硅化钛溅射靶, 50.8mm (2.0in) dia x 3.18mm (0.125in) thick, 99.5% (metals basis)

Titanium silicide sputtering target

  • CAS编号：235-082-9
  • EINECS： 235-082-9
  • 产地： 美国
  • 分子式： TiSi2
  • 纯度： average Mn ~470
  • 分子量： 104.07
  • 英文名： Titanium silicide sputtering target, 50.8mm (2.0in) dia x 3.18mm (0.125in) thick, 99.5% (metals basis)
  • MDL编码： MFCD00151541
  • 销售价： ￥5678
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    each 现货↔235-082-9-1 ￥5678

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